Material cerámico del anillo de enfoque de carburo de silicio
Material cerámico del anillo de enfoque de carburo de silicio Con el desarrollo de la tecnología de semiconductores, el grabado con plasma se ha convertido gradualmente en una tecnología ampliamente utilizada en los procesos de fabricación de semiconductores. El plasma generado por el grabado con plasma es altamente corrosivo y también causará una corrosión grave



